Прикладная математика и механика (о журнале) Прикладная математика
и механика

Российская академия наук
 Журнал основан
в январе 1936 года
Выходит 6 раз в год
ISSN 0032-8235

Русский Русский  English English  О журнале | Выпуски | Для авторов | Редколлегия | Подписка | Контакты
 


Архив выпусков

Статей в базе данных сайта: 10704
На русском (ПММ): 9905
На английском (J. Appl. Math. Mech.): 799

<< Предыдущая статья | Год 2026. Выпуск 2 | Следующая статья >>
Осадчий Н.В., Шепель В.Т. Сопротивляемость центробежной нагрузке тонкой оболочки в виде циклической поверхности с эллиптической образующей // ПММ. 2026. Т. 90. Вып. 2. С. 272-295.
Год 2026 Том 90 Выпуск 2 Страницы 272-295
DOI 10.7868/S3034575826020072EDN QTOPJZ
Название
статьи
Сопротивляемость центробежной нагрузке тонкой оболочки в виде циклической поверхности с эллиптической образующей
Автор(ы) Осадчий Н.В. (ПАО “ОДК-Сатурн”, Рыбинск, Россия, nikosadchii@yandex.ru)
Шепель В.Т. (ПАО “ОДК-Сатурн”, Рыбинск, Россия, sshepel@yandex.ru)
Коды статьи УДК 539.3
Аннотация

Исследовано влияние способа формообразования циклической поверхности с эллиптической образующей на ее сопротивление центробежным силам. Предложен способ генерации направляющей линии, на основе которой было сформировано пять видов циклических поверхностей, отличающихся ориентацией плоскости, в которой расположена эллиптическая образующая, относительно касательной к направляющей линии. На основе численного расчета массово-инерционных характеристик, потенциальной энергии деформации, а также мембранных и изгибных напряжений выбран способ, позволяющий сформировать циклическую поверхность с наименьшим уровнем напряжений. Показано, что с уменьшением интенсивности разворота эллиптической образующей вокруг касательной к направляющей линии нормальная циклическая поверхность становится более “гладкой”, а уровень изгибных напряжений в ней уменьшается.

Ключевые слова циклическая поверхность, эллиптическая образующая, тонкая оболочка, центробежные силы
Поступила
в редакцию
11 октября 2025После
доработки
10 декабря 2025Принята
к публикации
03 апреля 2026
Получить
полный текст
<< Предыдущая статья | Год 2026. Выпуск 2 | Следующая статья >>
Система OrphusЕсли Вы обнаружили опечатку или неточность на странице сайта, выделите её и нажмите Ctrl+Enter

119526 Москва, пр-т Вернадского, д. 101, корп. 1, комн. 245 • (495) 434-21-49 • pmm@ipmnet.ru • https://pmm.ipmnet.ru
Учредители: Российская академия наук, Институт проблем механики им. А.Ю. Ишлинского РАН
Свидетельство о регистрации СМИ ПИ № ФС77-82145 от 02 ноября 2021 г., выдано Федеральной службой по надзору в сфере связи, информационных технологий и массовых коммуникаций
© ПММ